十一月 05, 2026 | HALCON, 深度学习, 网络研讨会, 亚洲, 欧洲
仅凭较高的模型准确率，并不能保证模型在实际生产环境中的可靠表现。未知缺陷、新产品变体以及不断变化的生产条件，即使对于训练充分的深度学习模型，也可能带来挑战。
在本次免费网络研讨会中，MVTec 专家将深入探讨应对这些挑战的先进方法，并通过 MVTec HALCON 展示实用的解决方案。
检测未知异常：了解异常值检测（Anomaly Detection）和分布外检测（Out-of-Distribution Detection）如何帮助识别未知缺陷和未见过的输入数据。
适应变化：了解如何利用持续学习（Continual Learning）更新现有模型，以应对新类别和不断变化的生产需求。
超越模型准确率：了解受控决策、验证以及实际运行反馈如何帮助提高 AI 系统在生产环境中的可靠性。
本次网络研讨会面向希望进一步提升深度学习应用水平的机器视觉开发人员、工程师和系统集成商。建议参会者具备深度学习的基础知识。
报名表仅提供英文版本。
